工作在物鏡焦平面附近，可以有效減小探測器尺寸的透鏡，被稱為場鏡。

準確來說，場鏡應該工作在物鏡的像平面。一方面：場鏡的物平面和主平面重合，由主平面的特性可知其放大率為1，因此對系統的放大率無貢獻；另一方面，場鏡應該將物鏡的光闌面投影在目鏡的入瞳上，對于單透鏡而言，光闌面也就是出瞳，這樣可以保證物鏡的出射光能夠最大限度的通過目鏡。如果用在掃描系統中，則探測器替代了目鏡的入瞳。

F-Theta場鏡是激光打標機中應用最多的平面聚焦鏡頭，一般是和振鏡系統聯用。其中比較需要重要的有以下幾條：

掃描范圍：這是使用者最關心的問題，鏡頭能掃描到的面積越大，當然越受使用者的歡迎。但是如果一味的增加掃描面積，會帶來很多的問題，如光點變粗，失真加大等等。

焦距（跟工作距離有一定關系，但是不等于工作距離）：掃描范圍跟場鏡焦距成正比——掃描范圍的加大，必然導致工作距離的加大。工作距離的加大，必然導致激光能量的損耗。

聚焦后的光斑直徑跟焦距成正比。這意味著當掃描面積達到一定的程度后，得到的光點直徑很大，也就是說聚得不夠細，激光的功率密度下降非常快（功率密度跟光斑直徑的2次方成反比），不利于加工。

由于F-Theta場鏡是利用的y’=f*θ的關系來工作的，而實際的θ和tgθ的值還是有區別的。而且隨著焦距f的加大，失真程度將越來越大，如果控制系統中沒有校正程序標記出來的圖案將會嚴重變形。

工作波長：主要看激光器的波長，場鏡的鏡片是在給定的激光波長鍍膜。如果不在給定的波長范圍內使用場鏡，場鏡可能會被激光燒壞或所需要的激光透過率很低。

新特光電所提供的場鏡極為耐用可用于中功率和大功率應用的激光材料加工，如各類材料的高精度微構建、打標和貼標。使您能夠進行高精度激光材料加工。