場鏡是什么

工作在場鏡焦面附近的透鏡稱為場鏡，也稱為f-θ鏡，平場聚焦鏡。f-θ鏡的特點是所有的焦點構成一個圓平面。一般的聚焦鏡所有焦點構成一個球面。它是在不改變光學系統光學特性的前提下，改變成像光束位置。場鏡經常被應用在紅外光學系統中。

場鏡的主要作用：

1.提高邊緣光束入射到探測器的能力；

2.在相同的主光學系統中，附近場鏡將減少探測器的面積；如果使用同樣的探測器面積，可擴大視場，增加入射的通量；

3.使探測器光敏面上的非均勻光照得以均勻化。

聚焦光斑公式得出：

（1）聚焦光斑大小與場景焦距成正比，場鏡的焦距越大，聚焦光斑越大，管板功率密度越小，打標線條越粗；

（2）塑料打標，使用大焦距的場鏡，聚焦光斑大，可以增大填充線間距，提高效率；

（3）焦距大的場鏡，聚焦光斑功率密度小，適合氧化層薄的氧化鋁打黑；

（4）焦距小的場鏡，出射光斑功率密度大，適合一定深度的鉆孔和深雕。

選用場鏡，主要考慮的技術參數是工作波長、入射光瞳、掃描范圍和聚焦光斑直徑。

工作波長：主要是看激光器的波長，場鏡是在給定的激光波長鍍膜的。如果不在給定的波長范圍內用場鏡，場鏡會被激光燒壞的。

入射光瞳：如使用的是單片鏡，反射鏡置于入射光瞳的地方，最大可用光束的直徑等于入射光瞳的直徑。

掃描范圍：場鏡能掃描到的范圍越大，當然越受使用者的歡迎。但是如果增加掃描范圍，聚焦光點變大，失真度也要加大。另外加大掃描范圍，場鏡焦距和工作距也要加大。工作距離的加長，必然導致激光能量的損耗。還有聚焦后的光斑直徑跟焦距成正比，這意味著加大掃描范圍，聚焦光斑直徑跟著加大，光斑聚得不夠細，激光的功率密度下降非常快（功率密度跟光斑直徑的2次方成反比），不利于加工。所以使用者要根據不同的加工面積選用最適合的場鏡，或者備用幾個不同掃描范圍的場鏡。

聚焦光斑直徑：對于入射激光束直徑D、場鏡焦距F和光束質量因子Q的掃描系統，聚焦光斑直徑d = 13.5QF/D (mm)。所以用擴束鏡可以得到更小的聚焦光斑。

本產品主要用于激光打標機、舞臺燈光中，也可用于科學試驗和激光測量儀器中。

新特光電代理的這款熔融石英場鏡吸收小，是大功率和短脈沖應用的理想之選：

Jennar F-theta場鏡特別適用于千瓦范圍內的中功率和大功率應用的微加工。您可以在紫外線至可見光和紅外線的激光波長下使用標準場鏡：您將獲得波長為1080至266 納米的場鏡。

還有一款：JENar F-theta場鏡特別適用于中功率應用的激光加工，產品系列為1030—1080至355nm，您可以在紫外至可見光和紅外線的激光波長下使用標準場鏡。業納的標準F-theta場鏡極為耐用，能夠適用于高精度激光材料加工。您可將其用于各類材料的微結構激光打標和切割焊接。每個場鏡都配有防護玻璃，作為一項特別服務，我們可以為您提供STEP和ZMAX-Blackbox文件，您可以將JENar F-theta場鏡快速而又輕松地應用于您的系統中。

SilverineF-theta場鏡專為大功率和短脈沖激光器的應用而設計。熔融石英場鏡具有極低的吸收可適用于極高能量激光加工，波長范圍為1030~10180nm。900~1100nm。355nm，266nm。

我們的場鏡設計接近衍射極限，可提供高質量圖像，在整個掃描區可獲得極高的激光損傷閾值和極好的光斑一致性。Silverline場鏡能應對高達4Kw的激光輸出功率，而無需主動冷卻，它們能在極高能量的激光應用中實現最小的焦點偏移。我們可以提供標準版F-theta場鏡，亦可根據要求定制。

適用波長范圍為355nm的F-theta Silveline場鏡170-355-140，最大遠心角僅為4.9°，在100×100mm掃描范圍可獲得高質量的均勻光斑分布。該場鏡是大幅面與衍射極限高質量圖像的完美結合，其生產能力遠高于市場上可用的標準場鏡。我們采用新的高品質光學安裝技術，可確保所需的精度水平。

場鏡的維護

場鏡是由聚焦鏡片和透光膜構成。場鏡暴露在外部環境下，鏡片和膜層容易受硬質材料劃傷，這些損傷是不可修護的，鏡片和膜層容易受潮發霉，因此場鏡要蓋上下蓋存放在干燥箱里面。使用過程中，手不可觸碰鏡片，指紋會影響透光性。去除鏡片上的指紋和灰塵，要用無塵布蘸少許酒精繞一個方向向外把這些物質去除干凈。